عنوان اختراع: ایجاد پوشش نانو ساختار نیترید تانتالوم به روش رسوب شیمیایی از فاز بخار به كمك پلاسما با جریان پالسی مستقیم (DC PACVD (Pulsed"Deposition of nanostructured tantalum nitride coating using pulsed DC plasma assisted chemical vapor deposition (PACVD)"

خلاصه اختراع

در این اختراع، پوشش نانوساختار نیترید تانتالوم با استفاده از فرایند رسوب گذاری شیمیایی از فاز بخار به كمك پلاسما با بهره گیری از جریان پالسی مستقیم بر روی قطعات صنعتی ایجاد شده است. برای دست یابی به خواص مطلوب پوشش، قبل از عملیات لایه نشانی، بستر آزمایش با تركیب گازی مناسب از آرگون، نیتروژن و هیدروژن مورد عملیات پیش كندوپاش پلاسمایی قرار می گیرد. برای ایجاد پوشش در این اختراع، علاوه برگازهای ورودی (هیدروژن، آرگون و نیتروژن) از بخار تانتالوم كلراید بعنوان پیش ماده تانتالوم استفاده می شود. در این فرایند بعد از ایجاد پلاسما انتظار می رود كه مواد اولیه موجود در محفظه تجزیه شده و یون های موردنظر بر روی كاتد (كه محل قرارگیری قطعه می باشد) قرار گرفته و پوشش نانو ساختار نیترید تانتالوم بر روی سطح راسب گردد. در این اختراع متغیرها و شرایط اجرایی فرایند رسوب شیمیایی تركیب نیترید تانتالوم با نسبت استوكیومتری 1:1 با نرخ رسوب مناسب و در دمای پایین ارائه شده است.